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品牌 | crisoptical /長恒榮創(chuàng) | 光源 | 超高壓球形汞燈 |
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照明范圍 | φ110mm | 主機電源 | 220V |
尺寸 | 700(長)×700(寬)×960(高) | 重量 | 100kg |
C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機主要用途
主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
由于本機找平機構先進,找平力小、使本機適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。
C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機主要性能指標
1、有三種版夾盤供選擇,能真空吸附5"×5"或4"×4"方形掩版(2.5"×2.5"),版的厚度無特殊要求1.5~3mm皆可。分別用于φ4、φ3、φ2基片的曝光?;穸?.1~1mm都可以。
2、曝光
(1)光源采用GCQ350型超高壓球形汞燈。
(2)照明范圍:≤φ110mm
(3)光的不均勻性:φ100mm范圍內(nèi)≤±4%
(4)可使用的波長:G線、H線、I線的組合。(即3500~5000埃)
(5)成像面照明:使用UV—A型表測量,光照度≤15毫瓦/厘米2左右(采用3650測頭測量),光學結構原理為16面反射式多點光源。
3、采用進口時間繼電器(該繼電器可從0.1秒~999.9秒內(nèi)任意設定)控制“真空快門"。動作準確可靠。
4、該機為雙面接觸式曝光機,該機特制的翻版機構,能消除基片楔形誤差,保證上下二塊掩膜版對基片上下兩面良好的接觸,從而保證基片上下兩面的曝光質(zhì)量。
5、分辨率估量:如果用戶的“版"、“片"精度符合國家規(guī)定、環(huán)境、溫度、濕度以及房間凈化得到嚴格控制,采用進口“正性"光刻膠,且勻膠厚度和均勻度也得到嚴格控制的話,本機曝光最小分辨可達0.002mm,建議使用在≥0.003mm以上。
6、對準:
A、 兩個單視場變倍顯微鏡加二個CCD攝像機加14"顯示器。
1)二個單視場變倍顯微鏡的變倍范圍0.7X~4.5X.
2)二個CCD攝像頭:平面對角線尺為1/3"。
3)采用19"液晶顯示器,總放大倍數(shù)為0.7×42~4.5×42=30倍~189倍。
B、對準臺
首先真空吸附下掩版(注意掩版四個邊,平行于真空吸下掩版的裝置四個邊),然后將上掩版放在下掩版上,轉(zhuǎn)動曝光頭位置,使兩個單視場顯微鏡對準上掩版,調(diào)好左右兩個顯微鏡的焦距,從監(jiān)視屏上看清兩個像。調(diào)整下掩版X、Y和Q轉(zhuǎn)動,使上掩版上的圖像或標記線,顯視到顯示器屏的左右分開的中間位置,然后真空吸附上掩版。上掩版一旦吸附后,再也不能移動。通過下掩版進行X、Y和Q移動后,實現(xiàn)上下掩版的對準工作。
上下掩版的對準精度≤±0.001mm。
該機的主要優(yōu)點是,有一個上掩版相對于下掩版的翻轉(zhuǎn)機構,該機構翻轉(zhuǎn)角度≥90o,甚至可達180o,不僅便于上下基片,而且能保證上下掩版對應基片上下面的良好接觸。(能補償基片的楔形誤差),又能保證上下掩版對準了的圖形重合到原來位置,其誤差≤5μm。
這一點很重要,也就是說上下掩版對準后,不管怎么翻動,怎樣上下基片,上下掩版的圖形仍然是對準的!這對大批量生產(chǎn)的廠家來說很重要,只要上下掩版對準后,你就可以不斷地對基片進行雙面曝光,曝若干片以后,你如果想觀察上下掩版是否仍然對準的,你只要轉(zhuǎn)動曝光頭,使顯微鏡對準版,你就能在顯示器上看見,兩個版的對準情況。
X、Y調(diào)整范圍±4mm
Q轉(zhuǎn)角≤±5o
7、設備所需能源:
主機電源220V 50HZ 功耗≤1.5KW
配有一臺真空泵,真空泵電源220V
8、尺寸和重量:
尺寸:700(長)×700(寬)×960(高)
重量≤100kg
機體放在專用工作臺上
工作臺 750(長)×720(寬)×640(高) 高度可調(diào)范圍0~30mm
重量70kg (工作臺后側裝有電氣部分)
總重量≤170kg
9、雙面對準曝光機的組成
A、 主機
1)主機(含機體和工作臺)
2)機體上安裝二臺單視場可變倍數(shù)顯微鏡,二臺CCD攝像頭,一臺19"顯示器,一套很有特色的上下翻版裝置,二個16面反射鏡式多點光源曝光頭。
B、 附件:(用戶提出后,可配以下附件)
1)3"上下掩版吸版裝置
2)3"上下翻板裝置
3)一個350瓦高壓球形汞燈
4)真空泵一臺
5)?8(外徑)高壓用塑料管15m(用于真空管)一根
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